【Org. Lett.】名古屋工业大学:基于自由基-自由基偶联的光催化二氰基芳烃脱氰硼化反应

氰基芳烃是一类重要的有机合成中间体,广泛存在于药物、农药和光电材料中,其氰基可转化为多种官能团,因此被大量用于活性分子的构建。另一方面,有机硼化合物是Suzuki-Miyaura偶联等反应的核心原料,在制药行业中应用极广。然而,芳基硼化合物的传统合成方法(如亲电硼化、Miyaura硼化、C-H硼化)对底物类型有一定限制。
在此,名古屋工业大学(Nagoya Institute of Technology)Shuichi Nakamura、Daniele Leonori和Naoki Yasukawa团队报道了一种通过胺配位硼基自由基与二氰基芳烃衍生的自由基阴离子之间发生自由基-自由基偶联,从而实现二氰基芳烃脱氰硼化的正交策略,该过程通过氧化淬灭的光氧化还原循环实现。重要的是,所得胺-硼烷加合物可顺利与芳基卤化物进行Suzuki-Miyaura交叉偶联,包括生物活性化合物的后期官能团化。
本文研究亮点:
1.温和且可控的光催化条件:反应在室温、蓝光LED、空气氛围下进行,采用Ir(ppy)₃(PC1)为光催化剂,氧化淬灭循环驱动,连续光照为必要。模型底物3a分离产率达41%,且未检测到竞争性氢硼化副产物,放大实验收率基本保持,表明方法具有良好的可操作性和稳定性。
2.底物范围与官能团耐受性:1,4-和1,2-二氰基苯及其烷基(如甲基、乙基、二甲基)、烷氧基、芳基取代衍生物均可反应(3a~3n,产率范围约25%~41%),且反应兼容苄位C-H键(未发生HAT副反应),体现了较好的化学选择性。
3.合成应用价值突出:所得硼酸酯加合物可直接与多种芳基溴、芳基氯、芳基三氟甲磺酸酯及杂芳基溴(如吡啶、喹啉、苯并噻吩等)进行Suzuki-Miyaura偶联,产率多在60%~87%之间;尤其成功实现了降血脂药物非诺贝特的后期C-H官能团化(5at,45%),展示了该方法在药物分子后期修饰和复杂分子模块化构建中的巨大潜力。
本研究通过设计胺-配位硼基自由基与二氰基芳烃自由基阴离子的偶联,为氰基芳烃向有机硼化合物的直接转化提供了一种条件温和、步骤经济的新策略。
论文信息:
Naoki Yasukawa,* Ryota Nomura, Waka Okada, Kazutake Takada, Tsunayoshi Takehara, Takeyuki Suzuki, Daniele Leonori,* Shuichi Nakamura*. Photocatalytic Decyanative Borylation of Dicyanoarenes Enabled by Radical−Radical Coupling.
Org. Lett., 2026, DOI:10.1021/acs.orglett.6c02736.
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