带大家看下光化学反应釜定期保养原则都是什么?

摘要:光化学反应釜设备主要特征都有什么?
1.采用内照式光源,受光充分,灯源采用耐高压防震材质,经久耐用。
2.内置光源转换器,功率连续可调,稳定性高。配有大功率磁力搅拌装置,使样品充分混匀受光。

     光化学反应釜主要用于研究气相、液相固相、流动体系在模拟紫外光、模拟可见光、特种模拟光照射下,是否负载TiO2光催化剂等条件下的光化学反应。具有结构简单,采用触摸式按键,操作便捷,运行稳定,保护人体,自由组合,灵活定做等*优势。

  光化学反应釜设备主要特征都有什么?
  1.采用内照式光源,受光充分,灯源采用耐高压防震材质,经久耐用。
  2.内置光源转换器,功率连续可调,稳定性高。配有大功率磁力搅拌装置,使样品充分混匀受光。
  3.仪器具有高温度保护系统,自动断电功能。具有分步定时功能,操作简便。
  4.反应暗箱内壁使用防辐射材料,且带有观察窗。
  5.仪器采用智能微电脑控制,可观察电流和电压实时变化。
  6.双层耐高低温石英冷阱,可通入冷却水循环维持反应温度。
  7.机箱外部结构设有循环水进出口,内部设有2个专用插座,供灯源和搅拌反应器用。
  光化学反应釜定期保养原则:
  对于定制反应釜,拧紧过程遵循―循序渐进的规则,直到完全拧紧且齿轮没有错配。
  每次使用后,应及时清洗反应釜外壳和内部,并放置在通风干燥的环境中,避免腐蚀和污染。

  保证釜体和内胆干燥、清洁,不得过度磨损。如果反应釜金属外壳或内胆变形、相关附件堵塞、或者使用时间过长甚至超过金属疲劳期,应及时更换。




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